現(xiàn)在普遍的光刻機(jī)是7nm、14nm、28nm，而asml目前量產(chǎn)的為7nm的光刻機(jī)，2-5nm的光刻機(jī)正在研發(fā)，那么如果1nm的光刻機(jī)也出來(lái)了，會(huì)意味著什么呢？

從科學(xué)家的角度來(lái)看，硅基芯片目前被認(rèn)為1nm為極限，從近幾年來(lái)看，摩爾定律也好像失效了，不少人吐槽芯片廠(chǎng)商是在擠牙膏，的確如此，芯片制程越來(lái)越小，研發(fā)難度也更高。

并且，芯片制程越小，芯片的穩(wěn)定性和抗干擾性也越差，比如在軍工航天領(lǐng)域，對(duì)芯片的大小要求沒(méi)那么大，不像手機(jī)，在穩(wěn)定性和安全性上要求比較大，所以通常28nm以上的芯片就夠用了。

在技術(shù)上，目前想達(dá)到芯片制程1nm難度還非常大，而中國(guó)目前量產(chǎn)的也僅為28nm的光刻機(jī)，希望未來(lái)中國(guó)在光刻機(jī)上能完成追趕，我們一起期待。